霍氏“鲜清”是日本为消除各种辐射对人体细胞基因组织破坏，而历时50年，耗费近20亿美元研制成功的针对皮肤病发病根源的尖端基因产品，其独有的受国际专利保护的“DNA-2E”癣清双酶（中文名），不但能剪断皮癣致病菌基因复制链，迅速杀灭核心病菌，而且能将受损的免疫基因片段连接起来，重建皮肤免疫功能，防止内毒外菌再次攻击，防止复发。“鲜清”一举突破了传统清毒、排毒药物见效慢、副作用大、易反复的弊端，被誉为“找到了皮癣真正的根源”、“使人类皮肤病第一次得到真正意义上的康复”。

正如我的同行，美国科学院院士、美国FDA药物评审委员会主席托马森在第34届世界皮肤病研究新进展报告年会上断言：“日本运用尖端基因技术在治疗皮肤病领域已处于领先地位，而这一尖端关键术，至少在二十年内同类产品无法超越”。

（原文转载自《动销医药》杂志 抄袭必究）